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描述(shù):純水機(jī) 型號(hào):HAD-SE20HAD-SE20用自來水作(zuò)為水(shuǐ)源(yuán),集合(hé)微(wēi)濾,活(huó)性炭吸(xī)附,反滲(shèn)透,離子交(jiāo)換,紫(zǐ)外光氧(yǎng)化,濾(lǜ)等,把(bǎ)水中的離子,熱源(yuán),有機物(wù),顆粒物(wù),微生(shēng)物(wù),細(xì)菌等(děng)雜質去除,以(yǐ)此(cǐ)製取(qǔ)可(kě)以(yǐ)達(dá)到(dào)實(shí)驗要(yào)求(qiú)純(chún)度的純水,應(yīng)用於等(děng)院校,研究院所,業(yè)係(xì)統以(yǐ)及療(liáo)行(háng)業(yè)等(děng)。
廠商性質(zhì)
生產(chǎn)廠家更新時間
2026-07-27訪問(wèn)量
849
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詳細(xì)介紹(shào)
| 品牌 | 其(qí)他(tā)品(pǐn)牌(pái) | 產地(dì)類別(bié) | 國產 |
|---|---|---|---|
| 應用領域(yù) | 環保,食品(pǐn)/農產(chǎn)品,化工(gōng),製藥/生物(wù)製藥 |
1.純(chún)水(shuǐ)機(jī) 型(xíng)號:HAD-SE20
HAD-SE20純水機(jī)用自(zì)來水作(zuò)為水源(yuán),集合微濾,活(huó)性炭(tàn)吸附,反滲(shèn)透(tòu),離子(zǐ)交(jiāo)換(huàn),紫(zǐ)外光(guāng)氧化,濾(lǜ)等,把(bǎ)水中(zhōng)的離子(zǐ),熱源,有機物,顆粒物,微生(shēng)物,細(xì)菌(jūn)等(děng)雜質(zhì)去(qù)除,以(yǐ)此製(zhì)取(qǔ)可(kě)以達到實驗要求純度的(dí)純水,應用(yòng)於等院(yuàn)校,研究院(yuàn)所,業係統以及療行(háng)業等(děng)。
HAD-SE20性(xìng)能點
1,具有(yǒu)電源示(shì),泵(bèng)浦作(zuò)示,低壓(yā)示(shì)及係統衝(chōng)洗(xǐ)示(shì)能。
2,采用(yòng)口離(lí)子(zǐ)過(guò)濾(lǜ)膜(mó)及壓,靜(jìng)音純(chún)水(shuǐ)泵,運(yùn)行質量更(gēng)可靠,適(shì)用水(shuǐ)質更(gēng)廣泛;
3,具有係統衝洗(xǐ)能(néng):每次(cì)開機製水(shuǐ)前(qián),自(zì)動(dòng)衝洗30秒後,係統開(kāi)始製(zhì)水;
4,具(jù)有係統(tǒng)保(bǎo)護能(néng):當水壓過低或(huò)無水時,設備自(zì)動(dòng)停機,水源(yuán)來水時設備(bèi)自(zì)動(dòng)開(kāi)機;
5,RSE係列具有(yǒu)在綫水(shuǐ)質監測(cè)能,可實時監(jiān)測(cè)水(shuǐ)水(shuǐ)質(位(wèi)於儀器上方(fāng),能(néng)檢測(cè)區附(fù)近,為(wéi)數(shù)碼(mǎ)管(guǎn)示(shì)),RO水水質水(shuǐ)溫(wēn)以及純水水(shuǐ)質水溫。
水(shuǐ)要(yào)求 城市(shì)自(zì)來水(shuǐ);TDS<200ppm;水(shuǐ)壓>0.1Mpa;水溫:5-45℃
純
水(shuǐ)
水(shuǐ)
質 電導(dǎo)率(shuài) 0.3us/cm ( 25℃)(優於實驗(yàn)室二用水)
PH值(zhí)(25℃) 要求:無;
可氧化物(wù)(以O計) 要(yào)求(qiú):≦0.08mg/L;檢(jiǎn)驗(yàn)結果:≦0.08mg/L
蒸(zhēng)發(fā)殘渣(zhā)(105±2℃) 要(yào)求:≦1.0mg/L;檢驗結果:0.7mg/L
檢驗(yàn)依據(jù): GB/T6682-2008,
術(shù)
規
格(gé) 電源(yuán)/率 25W
產水(shuǐ)水量(liáng) 20L/h
尺寸(cùn)/重量 400*430*500(mm) /30KG
控(kòng)
製
係(xì)
統 操(cāo)作(zuò)模(mó)式顯示 電(diàn)源,缺(quē)水(shuǐ),衝洗(xǐ),滿(mǎn)水(shuǐ),水(shuǐ)水(shuǐ)質監(jiān)測,RO水(shuǐ)質水(shuǐ)溫,UP水質水(shuǐ)溫等(děng);
安性能 無水或水壓低自動入待機(jī)狀態,係統滿水(shuǐ)(恒壓(yā))入(rù)待機狀態;
純化
係統 預處(chǔ)理(lǐ)單元 外(wài)置軟化(huà)過濾(lǜ)器(原水(shuǐ)硬(yìng)度較的(dí)地方(fāng)建議(yì)選配(pèi));1μm深層(céng)PP濾(lǜ)芯*2+活(huó)性炭濾芯
RO反(fǎn)滲(shèn)透單(dān)元 美原裝(zhuāng)RO反(fǎn)滲(shèn)透(tòu)膜(mó)/膜組(zǔ) ;
後置(zhì)純(chún)化(huà)單元 純化柱
標(biāo)準配置 主機+附件包
注(zhù):1,水水質影響(xiǎng)出水質量和(hé)濾(lǜ)柱的使用壽命(mìng);2,源(yuán)水水質較差(TDS大(dà)於200ppm)時(shí),RO純水水質(zhì)會降至(zhì)10μs/c㎡以上(shàng);3,原水水質(zhì)TDS>500時,建議(yì)選用(yòng)軟水器(qì);
2.冷卻水循環機/循(xún)環冷卻(què)水機/手(shǒu)套(tào)箱配 型號(hào):HAD-X300
HAD係列冷卻循(xún)環裝置采用非(fēi)啟(qǐ)停(tíng)製冷,其和製能夠提供(gōng)行業(yè)的標和可靠性,是度和穩(wěn)定的冷卻設(shè)備(bèi)。 HAD係(xì)列冷(lěng)卻(què)循環(huán)裝(zhuāng)置(zhì)是封閉(bì)製冷係統,結(jié)合PID控製,製(zhì)冷快,溫度(dù)穩定(dìng),對(duì)些(xiē)要求恒溫冷(lěng)卻的(dí)設備。 HAD係(xì)列冷(lěng)卻(què)循(xún)環裝置(zhì)應用域(yù)廣(guǎng)泛,應用於各(gè)類(lèi)實驗室和域(yù),滿(mǎn)足(zú)不(bù)同的冷卻(què)恒(héng)溫(wēn)要求,可(kě)以(yǐ)配(pèi)套量(liáng)熱(rè)儀,折光(guāng)儀,密度檢測儀,電(diàn)泳槽(cáo),激(jī)光(guāng)器(qì),透(tòu)射(shè)掃(sǎo)描(miáo)電(diàn)鏡(jìng),真空鍍(dù)膜(mó)機等。
型號(hào):HAD-X300
溫(wēn)度(dù)範圍:5-35
控溫(wēn)度:正(zhèng)負0.1
體式:體(tǐ)式(shì)
製冷量(liáng)(20度時(shí)):300W
循環泵大壓(yā)力bar:0.8
循環泵(bèng)大(dà)量(liáng)L/MIN:15
水箱(xiāng)容積(jī):4L
儀(yí)器重(zhòng)量:30kg
外型尺(chǐ)寸(cùn):W*D*H 230×475×475
恒溫(wēn)磁力攪(jiǎo)拌器(qì)/磁(cí)力攪(jiǎo)拌儀 型號:HAH01-3
HAH01-3恒溫磁力攪(jiǎo)拌器 點
點:無刷(shuā)直(zhí)電機驅(qū)動(dòng),強磁力(lì),適用於粘度(dù)大容量(liáng)液體攪拌(bàn), 恒(héng)溫(wēn)型,配電(diàn)接點(diǎn)水銀(yín)溫度(dù)計可自動(dòng)控(kòng)溫(wēn),加(jiā)熱(rè)率無可(kě)調,電(diàn)壓(yā)表顯示加熱電(diàn)壓
3.HAH01-3恒溫磁力攪(jiǎo)拌(bàn)器主要(yào)參(cān)數
電 源(yuán):AC220V±10% 50Hz
攪拌轉(zhuǎn)速(sù):100~1800 r/min
大攪拌(bàn)容(róng)量:10000ml
電機(jī)轉矩:25mN·m
加(jiā)熱(rè)率:800W內可(kě)調
加 熱(rè) 盤(pán):¢175mm
控(kòng)溫(wēn)範圍(wéi):室溫~250℃
控溫度:±1℃
外(wài)形(xíng)尺寸:280×175×145(mm)
注:電(diàn)接點水銀溫度計用戶自備(bèi)
4.防感溫火災(zāi)探測器/感溫探測器(qì) 型號:HAD-W-1
產品描述
HAD-W-1防點型感(gǎn)溫火災(zāi)探測(cè)器(簡(jiǎn)稱(chēng)探(tàn)測器)為非(fēi)編碼(mǎ)開(kāi)關(guān)型(繼(jì)電器輸出(chū))探測器,適(shì)用(yòng)於安裝在含(hán)有(yǒu)ⅡCT6溫度(dù)組別的(dí)炸性氣體環境(jìng)場所,可以和內(nèi)外何(hé)廠家的(dí)火災(zāi)報(bào)警控(kòng)製(zhì)器配套使用。本產品(pǐn)符合(hé)GB3836係列標準(zhǔn)的要(yào)求(qiú),經(jīng)的檢測機構(gòu)鑒定並(bìng)取得(dé)了防合格(gé)證。
本(běn)探測器(qì)是利用(yòng)熱(rè)敏元(yuán)件(jiàn)對(duì)溫(wēn)度(dù)的(dí)敏感性來檢測環境溫(wēn)度(dù),別(bié)適用(yòng)於(yú)發(fā)生(shēng)火災時(shí)有(yǒu)劇(jù)烈(liè)溫升的場所。本(běn)探(tàn)測(cè)器已(yǐ)配(pèi)接(jiē)安(ān)柵,采(cǎi)用殊(shū)處(chǔ)理(lǐ),作(zuò)性(xìng)能(néng)穩定可靠(kào)。本(běn)探測(cè)器(qì)結構(gòu)新穎,外形美(měi)觀,與(yǔ)感煙探測器(qì)配合使用更(gēng)能可靠探測火災。
參數
1, 防形式(shì):本(běn)安隔復(fù)合(hé)式
2, 防標誌(zhì):Exd(ib)IICT6
3, 作電壓:DC20V~DC28V
4, 監(jiān)視(shì)電(diàn):≤0.6mA
5, 報(bào)警(jǐng)電(diàn):10mA≤I≤30mA
6, 報(bào)警(jǐng)復(fù)位:斷電(diàn)重(zhòng)啟
7, 報警(jǐng)溫(wēn)度(dù):60℃
8, 觸點(diǎn)容量:1A
9, 報警(jǐng)確認(rèn)燈:紅色(sè),正常監視時不(bù)亮,報警(jǐng)時常亮
10,保護(hù)麵積:空(kōng)間(jiān)度為6~12米(mǐ)時,保(bǎo)護麵(miàn)積(jī)為80平米(mǐ);空(kōng)間度在6米(mǐ)以下(xià)時(shí),保(bǎo)護(hù)麵積(jī)為60平米(mǐ)
11,使(shǐ)用環境:溫(wēn)度(dù):-20℃~+50℃;相對濕(shī)度:≤95% 不結露; 大氣(qì)壓(yā)力:80kPa~110kPa
12,綫(xiàn)口徑:2-M22x1.5(綫口的數量(liáng)和大(dà)小(xiǎo)可以根據用戶要求)
13,重(zhòng) 量(liáng):1.2kg
5.恒(héng)溫型 浸(jìn)漬提(tí)拉(lā)鍍膜機 垂(chuí)直(zhí)提拉機(jī) 提拉(lā)塗膜機(jī) 鍍膜機 型號(hào):HAD-100H
. 產品(pǐn)簡(jiǎn)介(jiè)
浸(jìn)漬(zì)提拉鍍(dù)膜機是(shì)門(mén)為液相(xiāng)(別是(shì)sol-gel法(fǎ))製備(bèi)薄膜(mó)材料的(dí)研(yán)究(jiū)作而(ér),對不(bù)同液(yè)體(tǐ)通(tōng)過浸漬提拉(lā)生長薄(báo)膜。提拉(lā)速度(dù),提(tí)拉度,浸(jìn)漬(zì)時間,鍍膜次數(多(duō)次(cì)多層鍍膜(mó)),鍍膜(mó)間(jiān)隔時間均連(lián)續可調(tiáo),控(kòng)製。對(duì)鍍膜基(jī)質(zhì)無(wú)殊要(yào)求,片狀(zhuàng),塊(kuài)狀(zhuàng),圓柱狀等均可鍍(dù)膜。運行(háng)穩(wěn)定,作時液(yè)麵無振(zhèn)動(dòng),可(kě)大提(tí)實驗(yàn)度與實(shí)驗效率。
適(shì)用於矽片,玻璃,陶(táo)瓷,金(jīn)屬等固(gù)體(tǐ)材料表麵(miàn)塗(tú)覆。應(yīng)用於研究,產品。
二. 產(chǎn)品(pǐn)點(diǎn)
1. 采(cǎi)用自主(zhǔ)的的傳動裝置;
2. 關(guān)鍵零(líng)件來自(zì)中(zhōng)中(zhōng)中(zhōng)國台灣及德口,確(què)保運行度及穩定(dìng)性;
3. 多(duō)參數自動控製;提拉(lā)速度連續可調(tiáo);
4. 鍍(dù)膜(mó)過程采用4.3寸(cùn)液(yè)晶觸(chù)摸屏使(shǐ)控製(zhì)更方(fāng)便(biàn);恒溫場溫(wēn)度LCD液晶(jīng)顯(xiǎn)示可(kě)編(biān)程控溫,。
5. 運行時(shí),各項參(cān)數(shù)實時(shí)顯示,更(gēng)直觀(guān)了解(jiě)鍍膜(mó)程;
6. ,低速均運行平穩,鍍膜(mó)時液(yè)麵無振動(dòng),使成膜更(gēng)均(jūn)匀(yún);
7. 整個鍍膜過(guò)程(chéng)在(zài)恒溫溫度(dù)場內(nèi)行,可控(kòng)溫,溫度均(jūn)匀性(xìng)好。
8. 殊的(dí)平口型夾(jiā)具(jù),兩麵均匀夾(jiā)持(chí)樣片,不會夾壞樣片;(單點螺絲(sī)緊樣片(piàn)的(dí)夾持方式容易夾壞樣片)
三. 參數(shù)
1. 提(tí)拉(lā)速度(dù)範(fàn)圍:1~5000 μm/s,小分(fēn)辨率1μm/s;
2. 適用(yòng)基片尺寸:MIN 5×5 mm,MAX 100×100 mm,厚度MAX 10mm;
3. 浸(jìn)漬時(shí)間:1~1200 s,小(xiǎo)分辨(biàn)率1s;
4. 鍍膜次數:1~20次(cì),少1次(cì);
5. 每次鍍(dù)膜(mó)間(jiān)隔時間(jiān):1~3600 s,小分辨(biàn)率1s;
6. 恒溫溫度(dù):RT+10~200℃,溫度分辨(biàn)率0.1℃;
7. 溫度(dù)波(bō)動(dòng)度≤±0.2℃;
8. 恒溫(wēn)場內(nèi)尺(chǐ)寸:340×320×320 mm(W×D×H);
9. 電源:220V/50Hz
溫馨(xīn)提示(shì):以上產品資料(liào)和圖(tú)片都(dū)是(shì)按(àn)照順(shùn)序(xù)相(xiāng)對(duì)應的
產品(pǐn)咨(zī)詢(xún)